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頭發的直徑約為80微米
 

頭發的直徑約為80微米,22納米是頭發直徑的1/3600。也就是說,這個光刻機能夠在頭發表面加工各種復雜的結構。
  ASML最新的第五代光刻機使用波長更短的13.5納米極紫外光(EUV),用于實現14納米、10納米、及7納米制程的芯片生產。
   一臺這樣的光刻機售價1億美元以上。
   而中科院光電所這臺設備,使用波長更長、更普通的紫外光,意味著國產光刻機使用低成本光源,實現了更高分辨力的光刻。
   有網友評價稱,中國造的光刻機說不定和其他被中國攻克的高科技設備一樣,以后也成了白菜價。
  上海微電子裝備目前生產的光刻機僅能加工90納米工藝制程芯片,這已經是國產光刻機最高水平。而ASML已經量產7納米制程EUV光刻機,至少存在著十幾年的技術差距。
   光刻機是制造芯片的核心裝備,過去一直是中國的技術弱項。光刻機的水平嚴重制約著中國芯片技術的發展。

 
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